อีสต์ ฮิลส์, นิวยอร์ก—(บิสิเนส ไวร์)
การปรับตัวของตลาดเซมิคอนดัคเตอร์ที่มีการขยายตัวอย่างรวดเร็วเพื่อที่จะลด ช่องว่างต่าง ๆ นั้น ยังคงช่วยหนุนความต้องการสำหรับเทคโนโลยีการกรองที่เป็นนวัตกรรมใหม่ ซึ่งจะสามารถทำให้ของเหลวมีความสะอาดและบริสุทธิ์ขึ้น
บริษัทพอล คอร์ปอเรชั่น (NYSE: PLL) ซึ่งเป็นผู้นำระดับโลกในด้านเทคโนโลยีไมโครอิเล็คทรอนิคส์ ได้นำเสนอผลิตภัณฑ์ใหม่ 9 รุ่น ซึ่งจะช่วยเพิ่มความสามารถในการไว้วางใจด้านกระบวนการ ศักยภาพในการถอดแบบ และศักยภาพในการผลิต และช่วยภาคอุตสาหกรรมในการรับมือกับความต้องการที่เปลี่ยนแปลงไป ผลิตภัณฑ์ใหม่สำหรับด้านเคมี ก๊าซ กระบวนการสร้างลายวงจรด้วยแสง (photolithography) และแอพพลิเคชั่นส์ chemical mechanical polishing (CMP) นั้น นับเป็นแอพพลิเคชั่นล่าสุดที่เพิ่มเติมไว้ในพอร์ทโฟลิโอที่กว้างขวางของ บริษัทสำหรับการปรับปรุงระบบต่าง ๆ ของวงจรรวมและการผลิตจอภาพ เทคโนโลยีดังกล่าวจะมีการจัดแสดงที่ Semicon West ซึ่งจะเริ่มขึ้นในวันนี้
แอพพลิเคชั่นด้านเคมี
พอลเปิดตัวแพลตฟอร์มเทคโนโลยีเมมเบรนรุ่นใหม่ เพื่อรองรับความต้องการที่กำลังเพิ่มมากขึ้นเกี่ยวกับ single wafer และกระบวนการ batch wet chemical เทคโนโลยี UltiKleen(TM) Excellar ER Filter นับเป็นฟิลเตอร์แบบ all-fluoropolymer ที่ใช้เทคโนโลยี 20 nanometer เครื่องแรก โดยเป็นการสร้างสรรค์ครั้งใหม่ของการออกแบบเมมเบรน PTFE ด้วยระบบจลศาสตร์พื้นผิวที่ได้รับการปรับปรุงสำหรับกระบวนการ non-dewetting ที่มากขึ้นในสารเคมีที่มีน้ำเป็นส่วนประกอบและมีความหนืดสูง ฟิลเตอร์นี้จะนำเสนอระดับใหม่ของการคงสภาพแก่ภาคอุตสาหกรรมดังกล่าวโดยการ สร้างศักยภาพในการจัดการกับอุปสรรคด้านการผลิตในปัจจุบัน เพื่อที่จะสามารถกำจัดสารปนเปื้อนในระดับต่อไป ขณะที่ฟิลเตอร์ดังกล่าวจะมีความสามารถด้านการคงสภาพและ dewetting ที่ได้รับการปรับปรุงนั้น ก็ไม่ต้องสูญเสียในด้านการดำเนินงานหรือการให้บริการแต่อย่างใด
นอกจากนี้ พอลยังกำลังเปิดตัว Ultipleat(R) SP DR Filter ซึ่งเป็นฟิลเตอร์แบบ highly asymmetric membrane ที่ใช้เทคโนโลยี 30 nanometer ที่ได้รับการพัฒนาโดยเฉพาะสำหรับแอพพลิเคชั่นการเตรียมพื้นผิวเคมีแบบเปียก การออกแบบ asymmetric ที่โดดเด่นของฟิลเตอร์ดังกล่าวจะใช้ได้กับ dual retention และวัสุดโพลิเมอร์จะทำให้ฟิลเตอร์สามารถทำงานที่อุณหภูมิที่สูงกว่าโพลิเม อร์อื่น ๆ ฟิลเตอร์ดังกล่าวยังมีคุณสมบัติความต้านทานสารเคมี, พื้นผิว hydrophilic และอัตราการไหลเวียนสูงที่ได้รับการปรับปรุงให้ดีขึ่นด้วย
นายสตีฟ ไคโซล์ม ประธานบริษัทพอล ไมโครอิเล็คทรอนิคส์ กล่าวว่า “UltiKleen(TM) Excellar ER แล Ultipleat(R) SP DR Filters ได้สร้างบรรทัดฐานด้านประสิทธิภาพการดำเนินงานครั้งใหม่ในตลาด ผลิตภัณฑ์ทั้ง 2 รุ่นต่างก็เป็นผลของการพัฒนาร่วมกันอย่างใกล้ชิดระหว่างทีมวิจัยและพัฒนาของ พอล และกลุ่มผู้ผลิตชิพชั้นนำในภาคอุตสาหกรรม และได้รับการยอมรับด้านกระบวนการ กลุ่มลูกค้าได้มีคำสั่งซื้อล่วงหน้าในการเตรียมพร้อมสำหรับการเปิดตัวเชิง พาณิชย์”
สมาคมภาคอุตสาหกรรมเซมิคอนดัคเตอร์ระบุว่า ในปีนี้ ยอดขายชิพจะอยู่ที่ราว 2.50 แสนล้านดอลลาร์สหรัฐ ซึ่งเพิ่มขึ้น 9.8 % จากปี 2548 เนื่องจากความต้องการของผู้บริโภคสำหรับอุปกรณ์อิเล็คทรอนิคส์ยังคงมีความ แข็งแกร่ง
แอพพลิเคชั่น Photolithography
พอลมีการเปิดตัวฟิลเตอร์ photolithography ที่มีความหนาแน่นมากที่สุด ฟิลเตอร์ PE-Kleen Filter รุ่นใหม่ ซึ่งใช้เทคโนโลยี 10 nanometer นั้น ได้มีวางจำหน่ายแล้วในขณะนี้สำหรับภาคอุตสาหกรรมเคมีด้านการพิมพ์หิน (lithography) ในวงกว้าง ซึ่งรวมถึง photoresists แบบ 193 และ 248 nm ฟิลเตอร์ดังกล่าวนับเป็นผลิตภัณฑ์ล่าสุดที่เพิ่มเติมไว้ในกลุ่มฟิลเตอร์ polyethylene membrane ที่มีความหนาแน่นสูง และนำเสนอศักยภาพในการลดข้อบกพร่องที่เฉพาะเจาะจง ขณะที่ยังคงแรงกดดันที่มีส่วนต่างต่ำมากในระหว่างการจัดหาหรือกระบวนการทาง เคมี
PE-Kleen Filters ของพอล ได้มีการนำไปใช้ในแอพพลิเคชั่นด้านการพิมพ์หินที่สำคัญจำนวนมาก และทำให้ลูกค้าสามารถใช้งานด้านการกรองในระดับที่ดีขึ้นโดยไม่ต้องลดความดัน ลงแต่อย่างใด ในการกรองที่ใช้ photoresist ตามวัตถุประสงค์ต่าง ๆ นั้น กลุ่มผู้พิมพ์หินจะต้องการฟิลเตอร์ที่มีศักยภาพในการลดข้อบกพร่องที่เฉพาะ เจาะจง ขณะที่ยังคงความดันที่ระดับต่ำมากในระหว่างการจัดหารหรือกระบวนการทางเคมี
“ในช่วงหลายปีที่ผ่านมา เทคโนโลยีของพอลได้ขจัดข้อจำกัดหลายต่อหลายครั้งของสิ่งที่อาจจะเกิดขึ้นใน การกรองในภาคอุตสาหกรรมการพิมพ์หิน ฟิลเตอร์ PE-Kleen Filter แบบ 10 nm รุ่นใหม่ของเราเป็นความก้าวหน้าตามธรรมดาในความพยายามอย่างต่อเนื่องของเรา เพื่อที่จะลดความหนาแน่นที่เป็นข้อบกพร่องและขนาดในกระบวนการพิมพ์หิน และจะยืนยันถึงความเชื่อของเราที่ว่ายังไม่มีการบรรลุถึงข้อจำกัดทางกายภาพ ของการกรองในภาคอุตสาหกรรมการพิมพ์หิน” นายไคโซล์มกล่าว
บริษัทได้เปิดตัวระบบ Water for Immersion System สำหรับการจัดหาน้ำที่มีความสะอาดเป็นพิเศษ ซึ่งมากถึง 2 ลิตร/นาที สำหรับเครื่องมือการพิมพ์หินแบบ immersion โดยดังกล่าวก็เพื่อใช้สำหรับแอพพลิเคชั่น photolithography ด้วย
เทคโนโลยีการกรองและการทำให้ก๊าซมีความบริสุทธิ์
พอลกำลังจัดแสดงผลิตภัณฑ์ใหม่ 3 รุ่น จากตระกูลของเทคโนโลยีการกรองและการทำให้ก๊าซมีความบริสุทธิ์ของทางบริษัท ผลิตภัณฑ์เหล่านี้ รวมถึง
— PG Series Gaskleen(R) Purifier Assemblies and Manifolds สำหรับก๊าซเฉื่อย, ก๊าซติดไฟ (silane, H(2)), ก๊าซกัดกร่อนและก๊าซไฮดรายด์ ซึ่งสามารถจัดการกับอัตราการไหลสูงถึง 1,000 slpm กลุ่มผลิตภัณฑ์รุ่นใหม่นี้จะกำจัดส่วนย่อยต่อพันล้านของสารปนเปื้อนในรูป โมเลกุล ซึ่งรวมถึงความชื้น, อ็อกซิเจน, คาร์บอนไดออกไซด์, คาร์บอนมอนนอกไซด์, ไอร์ออน คาร์บอนิลส์ และนิคเกิล คาร์บอนิลส์
— Gaskleen(R) TM Sandwich Filter Assemblies (1 1/8″ C-Seal) ที่มีการออกแบบที่โดดเด่น ซึ่งจะทำให้เป็นเรื่องง่ายในการรวมกันของส่วนประกอบของฟิลเตอร์ระหว่าง substrate และองค์ประกอบอีกส่วนหนึ่ง ฟิลเตอร์แบบแซนด์วิชดังกล่าวจะสามารถลดความยาวโดยรวมของท่อก๊าซ หรือยอมให้มีการเพิ่มองค์ประกอบอื่นในส่วนของท่อก๊าซที่มีอยู่
— AccuSep(R) SIL Nickel Filter Assembly ซึ่งได้รับการออกแบบเพื่อใช้ในกลุ่มแอพพลิเคชั่นก๊าซทีมีความบริสุทธิ์สูง มาก ส่วนประกอบฟิลเตอร์นี้จะใช้ประโยชน์ของสื่อฟิลเตอร์นิคเกิล Pall AccuSep ซึ่งจะขจัดอนุภาคที่ใหญ่กว่า 3 nm ด้วยประสิทธิภาพ 9-log
แอพพลิเคชั่น CMP
นอกจากนี้ พอลกำลังขยายขอบเขตของผลิตภัณฑ์การกรองในรูปแบบที่ปรับเปลี่ยนได้สำหจรับ CMP ด้วยการเปิดตัวผลิตภัณฑ์ใหม่ 2 รุ่น Profile(R) Sirius Filter ซึ่งเป็นฟิลเตอร์ที่ใช้เทคโนโลยี 0.2 ไมครอนนั้น ได้เอื้อประโยชน์สูงสุดสำหรับการคงสภาพของอนุภาคที่มีสารประกอบทางเคมีที่ ตายตัว กำจัดยาก และขนาดที่ใหญ่เกินไป คุณสมบัติที่ลึกขึ้นและหนาขึ้นจะช่วยเพิ่มประสิทธิภาพขึ้นมากถึงความดันส่วน ต่างที่ระดับสูง ส่วน StarKleen(TM) QD Capsule จะนำเสนอการประกอบที่รวดเร็วโดยไม่ต้องเชื่อมต่อเพื่อให้ง่ายในการติดตั้ง ใกล้กับจุดในการจัดหา
“ขณะที่เราฉลองครบรอบปีที่ 60 นั้น เรายังคงช่วยเหลือลูกค้าของเราในการบรรลุเป้าหมายด้านการผลิตโดยการนำเสนอ อุปกรณ์ด้านวิศวกรรมและโซลูชั่นด้านระบบที่ก้าวหน้า จุดมุ่งหมายเดียวของเราในการจัดหาโซลูชั่นด้านการกรอง, การแยกส่วนและการทำให้บริสุทธิ์แก่กลุ่มลูกค้าเพื่อที่จะทำให้มีศักยภาพใน การแข่งขันเพิ่มมากขึ้นนั้น เป็นสิ่งที่ทำให้พอล ไมโครอิเล็คทรอนิคส์มีความแตกต่างจากบริษัทอื่น ๆ” นายไคโซล์มกล่าวเสริม
พอล ไมโครอิเล็คทรอนิคส์เป็นผู้นำระดับโลกในด้านเทคโนโลยีการกรอง, การแยกและการทำให้บริสุทธิ์สำหรับภาคอุตสาหกรรมไมโครอิเล็คทรอนิคส์ บริษัทได้สนับสนุนตลาดเซมิคอนดัคเตอร์ การจัดเก็บข้อมูล ใยแก้วนำแสง จอภาพที่ทันสมัย และวัสดุต่าง ๆ ด้วยกลุ่มโซลูชั่นการควบคุมการปนเปื้อนสำหรับสารเคมี ก๊าซ น้ำ,เทคโนโลยี chemical mechanical polishing (CMP) และกระบวนการ photolithography
เกี่ยวกับพอล คอร์ปอเรชั่น
พอล คอร์ปอเรชั่นเป็นผู้นำระดับโลกในตลาดที่มีการขยายตัวอย่างรวดเร็วด้านการ กรอง การแยก และกระบวนการทำให้บริสุทธิ์ บริษัทพอลดำเนินธุรกิจใน 2 ตลาดใหญ่ได้แก่วิทยาศาสตร์เพื่อชีวิตและอุตสาห กรรม โดยบริษัทจะจัดหาผลิตภัณฑ์ชั้นนำเพื่อตอบสนองความต้องการของลูกค้าในตลาด ด้านเทคโนโลยี ชีวภาพ เวชภัณฑ์ เวชศาสตร์ด้านการถ่ายเลือด เซมิคอนดักเตอร์ กระบวนการผลิตน้ำบริสุทธิ์ อวกาศ และอุตสาหกรรม รายได้รวมของบริษัทสำหรับปีงบการเงิน 2548 อยู่ที่ 1.9 พันล้านดอลลาร์ โดยบริษัทมีสำ นักงานใหญ่อยู่ที่ อีสต์ ฮิลล์ รัฐนิวยอร์ก และมีการดำเนินงานทั่วโลก สามารถดูเว็บไซท์ของบริษัทได้ที่ www.pall.com
หมายเหตุถึงบรรณาธิการ:
— ผลิตภัณฑ์เหล่านี้ได้มีการจัดแสดงที่ Semicon West บู้ท #5656 และคณะผู้บริหารของพอลพร้อมที่จะให้สัมภาษณ์
— รูปภาพและข้อมูลเพิ่มเติมเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์ใหม่ดังกล่วและศักยภาพของพอ ลสำหรับตลาดเซมิคอนดัคเตอร์ จะสามารถดูได้ที่ http://www.pall.com/corporate_40410.asp
ติดต่อ: พอล คอร์ปอเรชั่น
สื่อ:
มาร์เซีย แคทซ์, 516-801-9851
Marcia_Katz@pall.com
หรือ
นักลงทุนสัมพันธ์:
แพทริเซีย เอียนุคซี, 516-801-9848
Pat_Iannucci@pall.com
